芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、IC芯片厂偏酸印刷废气概貌
电子器件打造工作中会产生了大批酸碱性印刷废气排放,最主要的种类于刻蚀、家电清洗、分散等艺基本原则。这样印刷废气排放基本成分冗杂,一般是还包括一下下列:
氟化物(HF、SiF₄等)
:最主要的是来自于刻蚀加工,具备强灼伤性和致癌性。
氯化氢(HCl)
:多多属冲洗和刻蚀环节,可溶于水组成弱酸性氢氧化钠溶液。
硝酸钠雾(H₂SO₄)
:常用于晶圆洗掉,废液中内含狗狗细小病毒液滴,易构成酸雾。
氮钝化物(NOx)
:区域较高温度工序会产生NOx,体现了条件特殊气味且易养成光化工烟气。
等有机废气不只是结垢设施,还有对生态容易造成严重性污染问题,因为必定经效率处理才可排放物。
二、酸碱性有机废气物操作重难点与难点
(1)办理存在的问题
成份错综复杂
:有所不同艺引发的的废气化学物质不一致性大,需采取性办理。
氧浓度变化大
:制作步骤中废气尾气排放标准尾气排放标准量不动态平衡,对解决机器的认知性标准高。
的酸性强
:咸性气体会到腐烛pvc管道和系统,需用耐腐烛建筑材料。
的排放基准须严格
:基带芯片厂大多数需实现《电离层弄脏物融合排放准则准则》(GB 16297-1996)等条例需要。
(2)处里关键点
预处里
:所采用喷淋清洗塔或湿式降解出掉大粒状物和环节强酸空气。
重点清理
:所用湿式洗涤剂(碱液结合)、吸收法(亲水性炭、原子核筛)或自燃法(RTO)。
后清理
:除雾仪器删去小液滴,确定及格排卸。
智慧化调整
:时实监测技术气体有机废气浓度,懂得调整工作技术参数以挺高效性率。
三、著名真实案例解读
典例1:某展览电子器件大型厂氟化氢(HF)废气排放处置新项目
废气排放优缺点
:
一般成份:HF(溶液浓度50-200mg/m³)、轻微SiF₄
新风量:20,000m³/h
温湿度:恒温
办理解决方案
:
二级喷淋清洗吸收的作用
:
首级利用NaOH盐溶液喷淋系统,避开大那部分HF。
其次级用Ca(OH)₂水溶液进两步处理,合成CaF₂沉淀自己。
除雾试验装置
:提高效率玻璃纤维除雾器清掉带入液滴。
主动化控制
:pH网络污染监测,定时投加保障中合吸收率。
加工治疗效果
:
HF排放出渗透压<1mg/m³,的还原率>99%。
系统的正常运作安全,维系代价低。